COATING SYSTEM
고객중심의 최적의
플라즈마 솔루션 및 코팅서비스를 제공하겠습니다.
코팅장비제작
COATING EQUIPMENT PRODUCTION
PECVD System
CVD 공법을 이용한 표면처리 및 DLC, Si-DLC 등의 박막을 코팅하는 시스템
진공 Chamber 내부에 소량의 고순도 가스(주로 반응성 가스)를 흐르게 하고 동시에 전극부분에 높은 전기장(수백~수천 V)을 가한다. 전극부와 Chamer 사이에 고순도 가스가 분해 및 반응을 통하여 플라즈마가 발생한다. 전극부에서 발생한 플라즈마를 활용되어 박막이 형성된다. 높은 전기장을 발생하는 전원 장치는 Rf power, Pulsed power이 활용되고 있다.
SPECIFICATIONS
| APPLICATION | DLC,Si-DLC coating | |
| PlASMA POWER | Rf Power with matching box | |
| CHAMBER SIZE | Batch type | H 600 x Φ 800mm |
| PRODUCT LOADING | Horicontal type | Rotation |
| PROCESS CONTROL | PC Window control | Full automatic process and process data store |
- APPLICATION
- DLC,Si-DLC coating
- PlASMA POWER
- Rf Power with matching box
- CHAMBER SIZE
- Batch type
- H 600 x Φ 800mm
- PRODUCT LOADING
- Horizontal type
- Rotation
- PROCESS CONTROL
- PC Window control
- Full automatic process and process data store