COATING SYSTEM

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코팅시스템

COATING SYSTEM

Arc Ion Plating System

Arc Source를 이용한 TiN,TiSiN,AlCrN,CrN 등의 질화물 박막 코팅용 시스템

Cathodic Arc source는 Chamber 내에 소량의 고순도 가스(주로 반응성 가스)를 흐르게 하고 동시에 source의 캐소드에 높은 전류(수십~수백 A)를 가하면서 순간적으로 점화(Striking)시킨다. 이때 타겟 표면에 플라즈마 스팟이 발생하며 이 스팟이 타겟의 표면을 랜덤하게 타겟 이온을 방출시킨 다. 방출된 이온들은 챔버 내의 반응성 가스와 함께 박막을 형성한다.

SPECIFICATIONS

APPLICATION Ceramic coating TiN,TiSiN,AlCrN,CrN 등
PlASMA SOURCE Cathodic Arc source Φ 125mm
CHAMBER SIZE Batch type H 1000 x Φ 1000mm or H600 x Φ 800mm
PRODUCT LOADING Vertical type Rovolution and rotation
PROCESS CONTROL PC Window control Full automatic process and process data store
  • APPLICATION
  • Ceramic coating
  • TiN,TiSiN,AlCrN,CrN 등
  • PlASMA SOURCE
  • Cathodic Arc source
  • Φ 125mm
  • CHAMBER SIZE
  • Batch type
  • H 1000 x Φ 1000mm or H600 x Φ 800mm
  • PRODUCT LOADING
  • Vertical type
  • Rovolution and rotation
  • PROCESS CONTROL
  • PC Window control
  • Full automatic process and process data store